屹唐起诉美国应用材料公司的诉讼终将落幕，但真正的胜负手仍在技术进化的马拉松中。真正的决战，将在纳米尺度的工艺创新中决出胜负。
文/每日资本论
一家名不见经传的中国科技公司向美国行业巨头开火了。
近日，部分媒体报道称，北京屹唐股份科技股份有限公司（下称，屹唐股份）表示，已起诉美国芯片设备供应商应用材料公司（下称，应用材料公司），指控其侵犯商业机密。由于前者属于国内半导体设备新锐，后者则是行业的全球性巨头企业，因此关注度极高。
屹唐股份指控后者通过非法手段获取其等离子体源及晶圆表面处理核心技术秘密，索赔金额精准定格在9999万元——距一亿元仅一步之遥。这场看似刻意的数字背后，是一场关乎中国半导体核心技术的保卫战。
起诉状核心直指“应用材料公司”通过“挖角”屹唐全资子公司Mattson Technology（MTI）的两名前核心技术人员，非法获取等离子体源及晶圆表面处理技术。证据显示，这两名曾深度参与屹唐核心技术研发的工程师，在签署严格保密协议的情况下，入职应用材料后竟立即在中国提交了与屹唐技术高度重合的专利申请。
涉案技术绝非普通工艺。该技术通过高浓度、稳定均匀的等离子体实现晶圆表面处理，是干法去胶设备和蚀刻设备的核心，直接影响芯片制造的良率与性能。在半导体产业链中，蚀刻设备技术壁垒仅次于光刻机，是“卡脖子”关键环节。
应用材料公司的操作手法被屹唐指控为“三重侵权”：非法获取技术秘密、通过专利申报公开披露机密、将专利申请权据为己有。这种系统性操作在半导体行业实属罕见，屹唐因此祭出法律武器，明确要求适用《反不正当竞争法》和《民法典》的三倍惩罚性赔偿条款。
被告应用材料公司是全球半导体和显示设备领域的领导者，拥有超过2.2万项专利，是第一家进入中国市场的国际半导体设备公司。其业务覆盖晶圆制造、封装测试等全产业链环节，客户包括英特尔、三星、台积电等全球顶尖芯片制造商。此次被起诉的侵权行为若经法院认定，不仅可能面临巨额赔偿，还将对其在中国市场的声誉及业务拓展产生负面影响。
诉讼主角屹唐股份或许广大投资者不太熟悉，但也绝非无名之辈。就在诉讼前一个月——2025年7月8日，这家公司刚刚完成一场轰动资本市场的上市盛宴。科创板挂牌首日，股价飙升174.56%，盘中振幅高达83.91%，最终以685.69亿元总市值收盘，成为2025年科创板最耀眼的IPO明星。
其招股书或能引起更多投资者的关注。屹唐股份2024年营收46.33亿元，归母净利润5.41亿元，同比激增74.8%；毛利率提升至37.39%，三年内增长8.87个百分点。更惊人的是2025年一季度表现——净利润2.18亿元，同比增长113.09%，预示半导体设备国产化进程正进入利润爆发期。
此次屹唐股份IPO募资24.97亿元，剑指14nm及以下先进制程刻蚀设备研发与高端薄膜沉积设备产业化。国资背景为其注入强大信用背书：北京亦庄国资通过屹唐盛龙间接控股45.05%，财政国资局为实控人。这种“国家队+市场化”的混合基因，使其兼具战略定力与商业敏捷性。
简单说，屹唐股份一上来，就来了一把“王炸”。难怪有网友在股吧里表示，“就冲胆敢状告美国上市大头，就至少值五个涨停板。”
那么，屹唐股份究竟是何方神圣呢？
事实上，屹唐股份的崛起本身是一部技术逆袭史。2016年，北京亦庄国资主导收购美国应用材料旗下MTI公司，完成中国资本首次跨境收购半导体装备公司的创举。在半导体专家、CEO陆郝安的领导下，这家濒临淘汰的业务部门蜕变为技术黑马。
其技术护城河已清晰显现。首先是屹唐股份的干法去胶设备全球市占率34.6%，位居世界第二，唯一进入台积电5纳米产线的中国设备。其次，快速热处理设备全球市占率13.05%，国内唯一实现量产，攻克双面加热技术破解热应力难题。再次，干法刻蚀设备挺进全球前十，服务英特尔、三星等顶级芯片厂。
支撑这些成就的是屹唐445项发明专利和占比29.28%的研发团队。其北京亦庄基地2024年设备产量234台，交付周期从45周缩短至32周，产能利用率超90%——这些数字折射出中国半导体设备制造能力质的飞跃。
尽管如此，从全球行业格局来讲，中国玩家的突围难度很大。全球前十大设备商中美国独占四席（应用材料、Lam Research、KLA、Teradyne），合计市占率超50%，日本企业在特定领域形成差异化优势。美国企业平均研发投入占比达17.7%，应用材料2025年研发支出超18亿美元，构筑起“设计-设备-制造”的闭环生态。
而中国半导体设备企业尚未进入全球前十，21家主要上市公司总营收仅30亿美元，不足全球市场的2.5%。本土设备在28nm及以上成熟制程已实现部分国产化，但先进制程仍严重依赖进口。当然，反过来说，这恰恰屹唐们必须攻克的战场，也是未来市场想象的空间。
屹唐起诉应用材料绝非孤立事件。2023年6月，应用材料曾先发制人起诉MTI“系统性窃取商业机密”，指控屹唐挖走17名工程师并转移技术路线图。屹唐此次反诉，实为中美半导体企业知识产权博弈的“第二回合”。
更深层看，本次诉讼折射中国半导体企业在逆境中正主动寻找战略突围——技术积累期：屹唐专利233项，研发费用连续三年超15%，2024年获大基金二期注资；政策护航期：享受研发费用加计扣除、进口零部件关税减免，契合国家“十四五”集成电路专项；规则主张期：通过法律手段确认技术主权，挑战既有知识产权秩序。
部分法律界人士表示，该案件涉及的技术秘密的“非公知性”证明、侵权行为与接触可能性的证据链、惩罚性赔偿适用条件。屹唐提交的保密协议、员工履历、专利申请等文件，将成为攻防关键。
值得一提的是，就在屹唐上市同期，中国半导体设备产业链呈现多点突破态势。中科仪北交所IPO获受理，深耕真空阀门、分子泵等核心部件，客户覆盖中芯国际、北方华创；研微半导体获数亿元融资，突破300mm金属原子层沉积设备，技术达国际领先；北方华创发布12英寸低压化学气相沉积设备，攻克高深宽比结构填充技术，获头部晶圆厂重复订单……
这些动向与屹唐诉讼在某种程度上形成了战略呼应——资本市场密集加持下，中国半导体设备国产化率已从2020年的5.1%，提升到2024年的25%，其中清洗、CMP、PVD设备超过35%，相比于2020年的5.1%，提升了4倍多。
敲黑板！当应用材料CEO加里·迪克森（ Gary Dickerson）在2025年8月14日的财报会上宣布第三季度营收73亿美元时，他特别强调“AI芯片制造需求正驱动技术范式转移”。其GAA晶体管、先进DRAM和HBM技术的设备收入激增，恰恰与屹唐起诉的等离子体技术同属晶圆处理关键环节。
而屹唐2025年上半年预计净利润3.08–3.4亿元（同比增长24.19%–37.09%）的底气，正源于中国晶圆厂扩产潮：长江存储、长鑫存储等企业未来三年计划新增产能占全球28%，为国产设备提供试炼场。
可以这样说，屹唐起诉美国应用材料公司的诉讼终将落幕，但真正的胜负手仍在技术进化的马拉松中。当全球半导体设备市场格局重塑的黎明将至，法律诉讼只是技术主权争夺的序章——真正的决战，将在纳米尺度的工艺创新中决出胜负。这场仅差一万元就达一亿的索赔，是中国技术新贵向旧秩序发起的精确打击，更是全球半导体产业权力转移的刻度尺。
【文章只供交流，并非投资建议，请注意投资风险。码字不易，若您手机还有电，请帮忙点赞、转发。非常感谢】
